L/F – Substrate – Others​

腔體式​

腔體式​ (4)

腔體式電漿清洗設備，可一次性清洗大量產品，並有LF(100KHz)與RF(13.56MHz)供選擇。
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In-line式

In-line式 (2)

針對plasma clean 效果要求更高而開發的設備, 可進行單一片或多片清洗, 並搭配RF(射頻),MFC 使用。
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